Влияние внешнего электрического поля на распределение зарядов и поля в металлическом острие
Кожушнер М.А., Посвянский В.С., Лидский Б.В., Боднева В.Л., Трахтенберг Л.И.

Поступила в редакцию: 7 Августа 2019

DOI: 10.31857/S0044451020020042

PDF (241.9K)

Найдено распределение электрического поля и зарядов в наноразмерном металлическом усеченном конусе в сильном электрическом поле. Геометрия задачи соответствует элементам шероховатости поверхности, а также игле сканирующего туннельного микроскопа. Показано, что происходит сильное, на десятки процентов, изменение плотности электронов вдоль оси конуса. Поле проникает в глубь металлической иглы на расстояния порядка нанометра. Заметно меняется положение уровня Ферми вблизи верхнего основания конуса. Показано, что барьер, через который туннелируют электроны при входе или выходе из иглы, асимметричен и зависит от знака внешнего электрического поля.