ИОНИЗАЦИОННОЕ ФОРМИРОВАНИЕ ПЛАЗМЕННОЙ НЕОДНОРОДНОСТИ БЛИЖНИМ ПОЛЕМ ИСТОЧНИКА МАГНИТНОГО ТИПА В ЗАМАГНИЧЕННОЙ ПЛАЗМЕ
Кудрин А.В., Курина Л.Е., Петров Е.Ю.

Received: November 16, 2000

PACS: 52.40.Fd, 52.50.Gj

DJVU (419.8K)

PDF (2551.3K)

Исследуется стационарная структура плазменной неоднородности, возникающей в результате высокочастотного нагрева и дополнительной ионизации фоновой замагниченной плазмы ближним полем источника магнитного типа (кольцевого электрического тока). Предполагается, что ось источника параллельна внешнему магнитному полю, частота источника принадлежит нижнегибридному диапазону. Основное внимание сосредоточено на важном для приложений частном случае, когда характерные продольный и поперечный масштабы распределения плотности существенно превышают соответствующие масштабы распределения температуры электронов и поля источника. Применительно к этому случаю записаны упрощенные уравнения для ближнего поля источника, температуры электронов и плотности плазмы. На основании численного решения данных уравнений получены стационарные распределения параметров плазмы в формируемой неоднородности. Показано, что плазменная неоднородность оказывается сильно вытянутой вдоль внешнего магнитного поля. Установлено, что при значениях тока источника, достижимых в условиях активных ионосферных и модельных лабораторных экспериментов, максимальная плотность плазмы в неоднородности может заметно превосходить фоновое значение.